薄膜生长速率测试仪采用无损的激光技术实时原位检测薄膜沉积速率、薄膜厚度以及光学常量（n&k），可广泛的应用于金属有机化学气象沉积MOCVD、分子束外延MBE、溅射系统Sputtering和蒸发系统等薄膜沉积过程的实时原位监控。
薄膜生长速率测试仪的特点：
1、实时薄膜沉积速率、薄膜厚度和光学常数（n&k）分析，同时标准偏差统计分析
2、自动程序化校准
3、精密的实时反馈系统
4、程序控制，可实时多层薄膜沉积监控和控制
5、多Wafer监控功能
6、Wafer基底旋转监控和控制功能
7、所有参量原位实时检测
8、操作装配简单便捷
更新时间：2021-10-14 
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